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应用材料公司申请形成金属硫系化物柱体的方法专利形成自对准结构添加时间：2025-01-19 05:53:50
金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“形成金属硫系化物柱体的方法”的专利，公开号 CN 119314947 A，申请日期为 2019年3月。
专利摘要显示，兹描述产生自对准结构的方法，所述自对准结构包含金属硫系化物。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜，并将含金属膜暴露于硫系前驱物，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。某些方法包含以下步骤：于基板特征中形成含金属膜；使含金属膜膨胀，以形成柱体；和将柱体暴露于硫系前驱物，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。某些方法包含以下步骤：在基板特征中直接形成金属硫系化物柱体，以形成包含金属硫系化物的自对准结构。亦描述形成自对准通孔的方法。
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